大家好，小都来为大家解答以上的问题。溅射靶材，关于溅射靶材的介绍很多人还不知道，现在让我们一起来看看吧！
1、磁控溅射是物理气相沉积（Physical Vapor Deposition，PVD）的一种。
2、一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点。
3、上世纪 70 年代发展起来的磁控溅射法更是实现了高速、低温、低损伤。
4、因为是在低气压下进行高速溅射，必须有效地提高气体的离化率。
5、磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场，利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。
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